中国可能“弯道超车”，绕过光刻机生产出先进芯片吗？
生产先进芯片之所以困难，在于缺少EUV光刻机。如果说光刻机是“工业皇冠上的明珠”，那么EUV光刻机绝对是最亮的那一颗。因为它的一些关键的零部件都是汇集了各国最顶级的工业技术。比如光源设备来自美国、镜头来自德国蔡司、三星，台积电和英特尔提供了分配技术等等。也正因为如此，有人说制造EUV光刻机的难度，甚至超过了制造航母。
那么我们有没有可能借助新技术弯道超车，不需要光刻机也能造出高端芯片呢？我国科研机构在相关领域的尝试从未停止过。
就像是石墨烯晶圆，作为碳基芯片材料，与传统的硅基芯片相比，稳定性和性能都有很大的提升。而中科院已经在石墨烯晶圆领域取得突破，研发出8英寸石墨烯晶圆。还有北大的科研团队，在中科院8英寸石墨烯晶圆的基础上，还制作出了5纳米工艺的碳晶技术，堪称“中国式的芯片奇迹”。
由此可见，我们通过新技术“弯道超车”，完全有可能。曾经我们在很多方面都落后于人，可经过几十年的不懈努力，如今在众多领域取得世界领先。要不了10年，或许3、5年，芯片卡脖子的问题一定会迎刃而解！
不知道大家怎么看呢？
